最大的区别是:1、材料不同,前者是硅基的,后者是一组三到五种化合物;2、前者是集成装置,后者是分立装置;3、后者要求较高的材料不良率。3W大功率LED工厂与你分享。
1.电子芯片生长在硅衬底上,各种光刻、蚀刻、掺杂、长膜、氧化等主要由硅或二氧化硅制成;在Si衬底上生长缓冲层后,生长n型GaN层和p型GaN层,中间形成多量子阱发光层。当电流通过PN结时,由于势能的变化,多余的能量以光的形式释放出来。光的能量随不同的势能差而变化,表现为不同的发光颜色(如蓝光、红色LED、红光能量)。低技术很简单,很多年前就出现了;蓝色LED能量高,难度大。蓝色LED激发黄色荧光粉产生白光)
2.芯片尺寸差异不是太大,比如cm / mm / 0.1mm的订单,但是在相同尺寸的集成电路中有非常复杂的电路(一般说7nm / 10nm工艺),集成电路的设计和制造是非常相似的。包括英特尔和三星等设计和制造公司,以及高通、苹果、Fabless和台积电等专业代工商;用于分立设备的模是一个独立光源。加上正负电极,内部工艺可达100um / 10um,制造工艺简单多了。从开始到结束大约一百步,几乎是一样的。更不用说独立的LED IC设计公司了。
3.芯片厂家对洁净度要求高,不良率低。前者可能会影响性能。有许多缺陷,载体不能以相同的速度移动。比如一批货物,有的可以运行在2.8GHz频率下,有的只能运行在2G以下;LED芯片要求发光层缺陷率要比硅器件高几个数量级(数据在印象中),否则会严重影响发光效率,即大部分能量以热能的形式丢失。LED技术和产品有几十年的历史,但大规爱游戏ayxdota2模使用(如液晶屏背光)已经过去20年,材料不是造成发光效率低的主要原因。
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